海恒诺环保超纯水设备积极推动集成电路产业发展
集成电路超纯水设备系统常用于工业中半导体原材料和所用器皿的清洗、光刻掩膜版的制备和硅片氧化用的水汽源等。此外，其他固态电子器件、厚膜和薄膜电路、印刷电路、真空管等的制作也都要使用超纯水。随着集成电路集成度的提高，对水质的要求也越来越高，这也对超纯水处理工艺和产品的简单性、自动化、连续性和可持续性提出了更严格的要求。超纯水设备生产的超纯水的电阻率可达到18 MΩ*cm(25℃)，完全符合集成电路清洗用水要求，积极推动集成电路产业发展。
超纯水设备采用反渗透水处理设备与电去离子(EDI)设备相结合的方式来制取超纯水，这是一种制取超纯水的新工艺，也是一种环保、经济、发展潜力巨大的超纯水制备工艺，与传统方法相比，该设备具有以下优势：
1、无需使用任何再生化学品进行再生，减少了化学品运输问题，同时降低了系统运行费用。
2、无需中和药剂。EDI膜块不会有酸碱废液产生，所以不需要酸碱中和池。
3、整套系统运行成本较低。设备主要是消耗电量来维持系统运行，反渗透相比混床的电费要高，但是没有再生药品的费用，所以整体运行成本低比传统混床工艺低。
4、设备可以连续工作，无需树脂更换，自动化性能强，无需人工操作。
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